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晶片掺杂AsF5气体泄漏怎样监测的

时间:2023-10-25  来源:气体检测报警仪  作者:赢润集团
作为半导体电子工业重要的特种气体之一,通过给芯片元件中掺杂五氟化砷AsF5,可以引入砷原子进入晶片材料中,从而提高材料的导电性能,调节电子浓度和类型,对于制造高性能的逻辑电路和存储器等半导体器件具有重要作用。但是由于五氟化砷AsF5具有较高的危险性,一旦发生泄漏危害极大,因此需要对其泄漏浓度进行监测,那么晶片掺杂AsF5气体泄漏怎样监测的呢?一般而言,可以通过在现场安装使用半导体特气五氟化砷浓度在线监测系统来持续监测泄漏积聚到空气中的五氟化砷AsF5气体的浓度值,以免发生安全事故。
晶片掺杂AsF5气体泄漏怎样监测的
晶片掺杂AsF5气体在半导体工业中有着广泛的应用。它主要用于半导体制造过程中的掺杂步骤,以改变半导体材料的电子特性。通过掺杂AsF5气体,可以引入砷原子进入晶片材料中,从而提高材料的导电性能,调节电子浓度和类型,对于制造高性能的逻辑电路和存储器等半导体器件具有重要作用。此外,AsF5的掺杂也可以用于制备高效的光电器件和太阳能电池等,促进了半导体技术的发展和应用。

五氟化砷AsF5掺杂主要工艺流程原理是通过将五氟化砷AsF5气体引入到半导体晶片中,以改变晶格中的电子结构,从而实现对半导体材料的掺杂。具体步骤包括:首先将半导体晶片放入化学气相沉积设备中,并控制温度和压力;然后通过气相传输系统将高纯度的AsF5气体引入到反应室中;接着,在高温条件下,AsF5气体会分解为砷原子和氟离子,这些原子和离子会与半导体晶片表面的原子发生反应,形成掺杂区域;最后,通过控制掺杂时间和温度,可以调节掺杂浓度和分布,从而获得所需的半导体材料特性。

半导体晶片掺杂电子特气五氟化砷AsF5气体泄漏的主要危害
1、健康危害
五氟化砷AsF5是一种有毒气体,具有强烈的腐蚀性和刺激性。暴露在AsF5气体中可能导致皮肤、眼睛和呼吸道粘膜的腐蚀损伤,引发疼痛、炎症和溃疡。长时间接触可能对呼吸系统、神经系统、肝脏、肾脏等器官产生不良影响,甚至导致慢性中毒。
2、环境危害
AsF5气体泄漏会污染空气,对环境造成污染。气体在空气中可迅速分解,生成有毒的氟化物烟雾,对空气质量和生态系统造成潜在危害。如果AsF5气体进入水体,会迅速与水反应生成氢氟酸,导致水体酸化和污染,对水生生物和生态系统造成危害。
3、生产危害
对于半导体行业来说,AsF5的泄漏可能导致设备损坏,影响生产进度和产品质量。AsF5是一种强氧化剂,可能与设备材料发生反应,导致设备性能下降或失效。此外,AsF5的泄漏还可能导致生产过程中的交叉污染,影响产品的纯度和可靠性。

以采用进口高精度气体传感器的ERUN-PG51AsF5固定式在线式五氟化砷AsF5气体检测报警仪为例,可以同时检测并显示五氟化砷AsF5气体的浓度值,超标声光报警,并联锁自动控制排气风机的启停,测量数据结果可通过分线制4-20 mA模拟信号量或总线制RS 485(Modbus RTU)数字量信号以及无线模式传输,通过ERUN-PG36E气体报警控制器在值班室实时显示氟化亚磷的浓度值,并相应的触发报警动作。
半导体特气五氟化砷浓度在线监测系统
半导体晶片掺杂电子特气五五氟化砷AsF5气体泄漏检测报警仪技术参数
产品型号:ERUN-PG51AsF5
检测气体:五氟化砷AsF5
量程分辨率:
AsF5:0-100ppm、0.01ppm,进口高精度ECD电化学原理传感器
其他量程、原理、分辨率可订制
精度误差:≤±2%F.S.(更高精度可订制)
显示方式:报警器1.7寸彩屏现场显示浓度值;控制器主机9寸彩屏值班室显示浓度值
报警方式:现场声光报警,值班室声光报警
数据传输:4-20mA、RS485,可选无线传输
防护功能:IP65级防水防尘
防爆功能:隔爆型,Ex d ⅡC T6 Gb级防爆

以上就是关于晶片掺杂PF5气体泄漏怎样监测的的相关介绍,五氟化砷AsF5掺杂的主要工艺流程原理是利用五氟化砷AsF5气体的化学活性,与硅或锗基片发生反应,生成稳定的化合物,从而实现对硅或锗基片的掺杂。然而,由于半导体晶片掺杂电子特气五氟化砷AsF5气体泄漏后会引发健康危害、环境危害、生产危害等,因此需要对其泄漏浓度进行监测。而通过在现场安装使用半导体特气五氟化砷浓度在线监测系统就可以24小时连续实时在线监测五氟化砷AsF5气体泄漏的浓度值,避免发生环境污染及人员中毒等危险。
 
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